真空镀钛介绍镀钛中的真空法：
真空镀钛在这种办法是在高真空状况命令资料气化或离子化堆积于工件外表而构成镀层的进程。
真空镀钛其主要办法是。
(一)真空镀钛的物理气相堆积(PVD)
真空镀钛在真空条件下，将金属气化成原子或分子，或者使其离子化成离子，直接堆积到工件外表，构成涂层的进程，称为物理气相堆积，其堆积粒子束来源于非化学要素，如蒸腾镀溅射镀、离子镀等。
(二)真空镀钛的离子注入
高电压下将不同离子注入工件外表令其外表改性的进程，称为离子注入，如注硼等。
(三)真空镀钛的化学气相堆积(CVD)
真空镀钛低压(有时也在常压)下，气态物质在工件外表因化学反应而生成固态堆积层的进程，称为化学气相镀，如气相堆积氧化硅、氮化硅等。真空镀钛
